संलग्नक

JNIKA® चीनको निर्माता र आपूर्तिकर्ता हो औद्योगिक दबाव धुने क्षेत्रमा धेरै वर्षको अनुभव छ। हामी ग्राहकलाई सफाई अनुप्रयोगको सन्तुष्ट समाधान प्रस्ताव गर्न उत्सुक छौं।

औद्योगिक र रासायनिक दबाव वाशर को लाभ:

1.  औद्योगिक र रासायनिक दबाव धुने प्रत्येक रासायनिक प्लान्टको लागि आवश्यक उत्पादन हो। यो दबाब होल्डिंग अन्तर्गत सुरु गर्न सकिन्छ पम्पलाई क्षति गर्न सजिलो छैन, यो अधिकतम मर्मत लागत बचत हुनेछ। यसको उच्च शक्ति सफाई प्रकार्य विभिन्न अनुप्रयोगको लागि प्रयोगको साथ। दबाब मूल्य पूर्ण रूपमा उद्योग मानक पूरा।

2. औद्योगिक र रासायनिक दबाव धुने 22 लिटर प्रति मिनेट हो तर अधिकतम दबाव दायरा 370 बार देखि 500 ​​बार सम्म, दबाब धुने सामान्य वाशर भन्दा धेरै सफा प्रभाव छ। यो पानी बचत, ऊर्जा बचत र लागत बचत को विशेषताहरु संग।

3. प्रेसर धुनेले औद्योगिक र रासायनिक क्षेत्रको विभिन्न अवस्थाको विशेष आवश्यकताहरू पूरा गर्दछ, जस्तै पानीको प्रमाण, धुलो प्रतिरोध, विस्फोट रोकथाम, आदि।

4. दबाब सफा गर्ने मेसिन सञ्चालन गर्न सजिलो छ र जीवन सुरक्षा सुरक्षाको उच्च दर छ। कम मर्मत र कार्य दक्षता अपग्रेड।